BSM-Serie - SWIR-Mikroskopsystem

Produktbeschreibung

Die BSM-Serie ist ein modulares Mikroskopsystem für Kurzwelliges Infrarot (SWIR) mit einem Spektralbereich von 900–1700 nm. Sie kombiniert koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung, SWIR-optimierte Objektive, flexible Tubuslinsenkonzepte und hochempfindliche Kameras zu einer präzisen Plattform für die nichtdestruktive Analyse von Silizium, Keramik und weiteren technischen Materialien.

Dank der modularen Architektur lässt sich das System an unterschiedliche Arbeitsabstände, numerische Aperturen, Sensorgrößen und Integrationsanforderungen anpassen. Damit eignet sich die BSM-Serie sowohl für Laboranwendungen als auch für industrielle Prüf- und Entwicklungsumgebungen.

Technische Merkmale

  • SWIR-Bildgebung im Bereich 900–1700 nm
  • Nichtdestruktive Analyse siliziumbasierter Materialien und Bauteile
  • Vier Tubuslinsenoptionen für Standard- und kundenspezifische Integrationen
  • M Plan Apo NIR-Objektivserie mit bis zu 0.4 µm Auflösung
  • Koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung mit 1550/1400/1300/1200 nm LED-Lichtquellen
  • Modulare Plattform für Sensor-, Optik- und Automatisierungsanpassungen
  • Dedicated M Plan Apo NIR objective range from 5X to 50X HR
  • Auflösung im Mikrometerbereich bis 0,4 µm mit 50X-HR-Objektiv
  • SWIR-Kameraoptionen von 0,33 MP bis 5,0 MP mit integrierter TEC-Kühlung
  • Standard-C-Kameraschnittstelle zur Integration von SWIR-Kameras
  • Präzise CNC-Struktur mit vibrationsarmem Design
  • Skalierbare Plattform für Sensor-, Wellenlängen- und Automatisierungsanpassungen

Anwendungsbereiche

Halbleiterfertigung Materialwissenschaft Industrielle Prüfung

Produktdetails

Grundlegende technische Parameter

Systemeigenschaften

Optische Kompatibilität

Standard-Glasoptiken ermöglichen die Integration in klassische Mikroskopplattformen und reduzieren die Hürde zwischen sichtbarer Mikroskopie und SWIR-Systemen.

Nichtdestruktive Silizium-Analyse

SWIR macht interne Strukturen, Mikrorisse und Verbindungsfehler in siliziumbasierten Materialien sichtbar, ohne die Probe zu zerstören.

Modulare Tubuslinsenkonzepte

Vier aktuelle Tubuslinsenoptionen decken Standard- und kundenspezifische SWIR-Konfigurationen mit 24 mm oder 33 mm Bildfeld ab.

Flexible Kameraplattform

Die SWIR-Kameraserie mit integriertem TEC deckt 0.33 MP bis 5.0 MP sowie hohe Bildraten für Labor- und Prüfanwendungen ab.

Optiktubus-Spezifikationsparameter

Produktmodell Geeignete Objektive Brennweite der Tubuslinse Bildfeld Spektralbereich Kameraanschluss Beleuchtungsart Lichtquelle
BSM-T100VA - 100 mm 33 mm (mit 200 mm Tubuslinse) 900–1700 nm C-Mount Koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung 1550/1400/1300/1200 nm LED-Lichtquelle
BSM-T180VB - 180 mm 24 mm (mit 180 mm Tubuslinse) 900–1700 nm C-Mount Koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung 1550/1400/1300/1200 nm LED-Lichtquelle
BSM-T090VA (Customized) - 90 mm 33 mm (mit 200 mm Tubuslinse) 900–1700 nm C-Mount Koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung 1550/1400/1300/1200 nm LED-Lichtquelle
BSM-T110VA (Customized) - 110 mm 33 mm (mit 200 mm Tubuslinse) 900–1700 nm C-Mount Koaxiale Auflicht-Köhler-Beleuchtung 1550/1400/1300/1200 nm LED-Lichtquelle

Objektiv-Parametertabelle

Produktmodell Numerische Apertur (NA) Arbeitsabstand (WD) Fokallänge Auflösung Schärfentiefe Sehfeldzahl (FN) Gewicht
M Plan Apo NIR 5X 0.14 37.5 mm 40 mm 2.0 µm 14 µm 24 mm 220 g
M Plan Apo NIR 10X 0.26 30.5 mm 20 mm 1.1 µm 4.1 µm 24 mm 250 g
M Plan Apo NIR 20X 0.4 20 mm 10 mm 0.7 µm 1.7 µm 24 mm 300 g
M Plan Apo NIR 50X 0.42 17 mm 4 mm 0.7 µm 1.6 µm 24 mm 315 g
M Plan Apo NIR 50X HR 0.65 10 mm 4 mm 0.4 µm 0.7 µm 24 mm 450 g

SWIR-Kameraoptionen

Produktmodell Sensor Pixelgröße G-Empfindlichkeit / Dunkelsignal Schnittstelle Bildrate (FPS) Mittelwertbildung Belichtungszeit Abmessungen
SWIR5000KMA 5.0 MP / IMX992(M,GS), 1/1.4'' (8.94×7.09), integriertes TEC 3.45 × 3.45 µm 51.5 dB / 48.5 dB USB3 8 Bit: 61.9@2560×2048 / 135.7@1280×1024; 12 Bit: 35.5@2560×2048 / 135.7@1280×1024 - 15 µs–60 s 80 mm
SWIR3000KMA 3.0 MP / IMX993(M,GS), 1/1.8'' (7.07×5.3), integriertes TEC 3.45 × 3.45 µm 51.5 dB / 48.5 dB USB3 8 Bit: 93@2048×1536 / 176@1024×768; 12 Bit: 57@2048×1536 / 176@1024×768 - 15 µs–60 s 80 mm
SWIR1300KMA 1.3 MP / IMX990(M,GS), 1/2'' (6.40×5.12), integriertes TEC 5 × 5 µm 58.7 dB / 52.6 dB USB3 8 Bit: 200@1280×1024 / 392@640×512; 12 Bit: 108@1280×1024 / 209@640×512 - 15 µs–60 s 80 mm
SWIR330KMA 0.33 MP / IMX991(M,GS), 1/4'' (3.20×2.56), integriertes TEC 5 × 5 µm 58.7 dB / 52.6 dB USB3 8 Bit: 400@640×512 / 753@320×256; 12 Bit: 212@640×512 / 400@320×256 - 15 µs–60 s 80 mm

Systemkonfigurationslösung

Flexible Kombination von Hardware- und Softwaremodulen nach Anwendungsanforderungen

Dimension Schlüsselkonfiguration Technische Highlights Kundennutzen
Bildgebungshardware • ToupCam X-Serie: IMX415/IMX571 etc. BSI CMOS, max. 45 MP, USB 3.0/HDMI 60 fps 4K
• HCAM/PUM tragbares Modul: UVC Plug & Play, eingebautes 8-LED-Ringlicht
• Niedriges Ausleserauschen & 66 dB+ Dynamikumfang
• Rolling Shutter + Global Shutter-Optionen
Realistische Farbwiedergabe, hoher Kontrast; erfüllt Hochgeschwindigkeits-AOI, schwache Fluoreszenzsignale und weitere Anwendungen
Zoom-Optik • MZO-Serie (0,25×–8×): 20× Zoomverhältnis, NA 0,12, 174 mm langer Arbeitsabstand
• ZOPE All-in-One: eingebaute 8 LED & USB-Kamera, parfokaler linearer Zoom
Doppelter paralleler Strahlengang, beugungsbegrenzte MTF, geringe Verzeichnung Zoomen ohne Nachfokussierung erforderlich, direkt vom Millimeter- zum Mikrometerbereich
Beleuchtungssystem • TZM0756DRL 65/85 mm LED-Ringlicht: PWM-Helligkeit stufenlos einstellbar
• TZM0756CL koaxiales Licht + Punktlichtquelle
• AALRL-200 großes Ringlicht: 300 mm gleichmäßiges Sichtfeld
Mehrkanal/polarisiert/koaxiales Mischlicht; LED-Winkel 30° einstellbar Löst Probleme wie PCB-Lötstellenblendung, Wafer-Kratzer, transparente Dünnschichtinspektion
Mechanische Plattform • TPS-600 Grob-/Feinstativ (5 kg Tragfähigkeit)
• TPS-300 Präzisionsfeineinstellung 2 µm Schritt
• Motorisierte Z- & XY-Plattform (optional)
Eloxiertes Aluminium Klasse II Luftfahrtlegierung, Kugellager-Linearführung Langzeit 24×7 stabile Positionierung, unterstützt Autofokus und Array-Scanning
Software & Algorithmen • ToupView: Echtzeitmessung/Annotation, Tiefenschärfensynthese, HDR, Polarisationsauflösung
• SDK/API: Windows/macOS/Linux/Android
• KI-Modul: Fehlerklassifizierung, Größentoleranzbestimmung
Sekundärentwicklung + PLC/Roboter-Schnittstellenprotokoll Schnelle Integration in MES/SPC-Qualitätssystem, unterstützt Edge-Computing und Cloud-Synchronisation

Systemvorteile

Fünf Kernvorteile für eine professionelle Mikroskop-Bildgebungsplattform

Komplettes Ökosystem, schlüsselfertige Lieferung

Kamera, Objektiv, Beleuchtung, Halterung, Software – alles aus eigener Entwicklung. Keine Mehrfachbeschaffung erforderlich, Plug & Play spart 60 % Integrationszeit.

Hohe Auflösung + große Schärfentiefe

45 MP Ultra-HD CMOS + Tiefenschärfensynthese-Algorithmus, erreicht mikrometerklare Bilder in 30 mm Sichtfeld.

Multispektral & Low-Light-Bildgebung

Unterstützt Weißlicht/Nahinfrarot/Polarisationskombination mit koaxialem & Ringlicht-Synchronschaltung; zeigt Texturdetails selbst bei 0,05 lux.

Flexible Erweiterung, Investitionsschutz

Standard C-Mount & GigE Vision/USB3 Vision Protokoll, spätere Upgrades für KI-Module, automatische Objektträger und Mehrkamera-Synchronisation ohne Hauptkörpertausch.

Branchenübergreifende Anwendungsfälle

  • Halbleiter: Bumping, Kratzer, Bond-Draht-Fehler AOI
  • FPC/PCB: Lötpastenhöhe, Lötstellen-Rückstandsprüfung
  • Neue Energien: Lithium-Separator-Porengröße, Elektrodenbeschichtungs-Uniformität
  • Biowissenschaften: Gewebeschnitte, Entomologie, Pflanzen-Lebendbeobachtung
  • Bildung & Ausbildung: Hochschul-Materialkurse virtuelle Experimente, STEAM-Maker-Kurse

Anwendungsfälle

Erfolgreiche Implementierungserfahrungen in mehreren Branchen

Halbleiterprüfung

Automatische optische Inspektion von Bumping, Kratzern, Bond-Draht-Fehlern

Halbleiterproduktion
PCB-Prüfung

Hochpräzise Prüfung von Lötpastenhöhe und Lötstellen-Rückständen

FPC/PCB-Qualitätsprüfung
Neue Energieprüfung

Analyse von Lithium-Separator-Porengröße und Elektrodenbeschichtungs-Uniformität

Neue Energiematerialien
Biowissenschaften

Gewebeschnitte und dynamische Lebendzellbeobachtung

Biowissenschaftliche Forschung